紫外线清洁技术的应用范围

紫外线清洁技术的应用主要用于液晶显示设备，半导体硅片，集成电路，高精度印刷电路板，光学设备，石英晶体，密封技术以及带有氧化膜的金属材料的生产过程中。 适当。

主要材料：ITO玻璃，光学玻璃，铬板，掩模板，抛光的石英晶体，硅片和带有氧化膜的金属等，用于精密清洁。

可以去除污垢：有机污垢，人体皮脂，化妆品油，树脂添加剂，聚酰亚胺，石蜡，松香，润滑油，残留的光致抗蚀剂等。

此UV光源具有UV改性的特性 （LCD的表面质量变化）。 目前，在LCD STN的生产过程中，它主要用于薄膜加工技术中。 薄膜之间的粘合非常有效，例如ITO薄膜和光敏薄膜层，TOP涂层和PI涂层等。此外，它还可以用于UV改性塑料材料产品的研究部门进行纳米技术研究。 紫外线照射后，产品会发生化学反应，从而改变产品的表面性能。 在STN-LCD，彩色滤光片和OLED的生产过程中，某些过程设备相当相似，不同之处在于不同的制造过程要求。 随着电路的细化和产品的色彩比例的提高，LCD行业对制造工艺的要求也在不断提高，并且对“想做得好，必须先提高其工具的工人”的需求不断提高，因此只有设备能力不断提高 改善。 为了提高生产质量和效率。

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